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產品資訊2016-07-02

霍爾離子源離子槍KRi EH5000F在大尺寸光學蒸鍍機應用

霍爾 離子源離子槍 KRi EH5000F在大尺寸光學蒸鍍機應用

伯東公司為美国考夫曼公司 ( Kaufman & Robinson, Inc(KRi)  離子源 離子槍大中華區總代理 

離子源發明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士將此專利授權 VEECO 生產,於1978年考夫曼博士在美國自行創立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美国考夫曼公司,並歷經30年離子源離子槍之改良及研發,取得多項專利,目前已在光學鍍膜 (Optical coating)、IBAD (離子源助鍍)、IBSD (離子濺鍍)、IBE (離子刻蝕)、DD (離子鍍膜) 等應用領域大量使用

 

    

 

KRi End Hall EH5000F (霍爾離子源) 已成功應用於大尺寸之光學鍍膜機。.隨著市場需求,無論在於太陽眼鏡光學鍍膜 (AR coating)、智慧型手機照相鏡頭 (Lens coating) 鍍膜品質及效率都必須提高。而 KRi End Hall EH5000F 霍爾離子源離子槍已成功應用於光學鍍膜中必須的輔助鍍膜應用,使得大尺寸光學鍍膜機生產過程獲得高生產良率

 
 伯東公司霍爾離子源KRi  EH5000F優點:
  • 高離子濃度(High density),低能量(Low energy)
  • 離子束涵蓋面積廣(high ion beam sharp) 
  • 鍍膜均勻性佳
  • 提高鍍膜品質
  • 模組化設計,保養快速方便
  • 增加光學膜後折射率(Optical index)
  • 全自動控制設計,超做簡易
  • 低耗材成本
  • 離子源安裝簡易

        更多產品資訊:http://www.hakuto-vacuum.com.tw/product-list.php?pid=16

 

伯東公司主要經營產品:

 
 
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