真空腔體特點:
採用水電分離原則設計,減少及危險性.
各方面的設計均為模組化,所以機台維修更換方便.備品均已標準化,無需待料之虞.
採用適合在高溫長時間使用的 water buffer,增加 cryo pump 抽氣的穩定性及增加其壽命.
人機界面觸控面板:
1. 可以選擇人機介面 PLC 或採用 PC Control Panel.
2. PC Control 可以具有蒸鍍資料如溫度,轉速,power,等各項資料長時間記錄功能.
1. R/H 蒸發源設計
2. 多組蒸發源且均有高均勻性之設計
3. 嵌牆式設計
4. 多層膜全自動鍍膜
電子槍/熱電阻混和蒸鍍系統
1. E/B+R/H 複合蒸發源設計
2. 膜厚均勻性均能達到 ±5% 以下
3. 嵌牆式設計
4. 多層膜全自動鍍膜
+886-2-8772-8910