4W-LISE 離子蝕刻系統
LISE (Laboratory Ion Soft Etch) 離子軟蝕刻系統利用一個低能等離子體源提供中和,低能,發散的離子通量與偏壓,用於軟蝕刻,等離子清洗,等離子體氧化/硝化,以及傳統的反應離子蝕刻應用.此外LISE離子軟蝕刻系統可以用來沉積類鑽膜(DLC)。
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