4W 離子蝕刻系統
4W 離子蝕刻系統介紹: LIBE,LISE和LIME系列離子蝕刻系統設計靈活,性價比高、佔用空間小適合通用研究和生產應用。LIBE,LISE和LIME系列離子蝕刻系統以真空平臺為基礎採用兩種不同的離子源
+886-2-8772-8910