KRI Ion Source eH 系列離子源
結合是圓柱式及線性配置的離子槍 (ion source), 這些配置可以整合至多種真空工藝平臺, 包含鍍膜機, 傳送腔體, 捲繞式鍍膜機, 磁控濺射機, 連續式鍍膜機, 我們提供一套完整的方案包含離子源 (ion source), 電子中和器, 電源供應器(Compact Power Supply), 流量控制器 (MFC), 等等...
KRI Ion Source eH 400 系列離子源:
KRI Ion Source eH 400 系列離子源能夠提供高離子電流,適用於中小型真空系統,可以控制較低的離子能量,適用於像塑膠鏡片等脆弱的材料和III-V族半導體材料 (III-V compound)。通常被應用在離子輔助沉積工藝,然而 eH 400 離子源被更多的使用在原位預清洗和低能刻蝕工藝。
KRI Ion Source 無柵式燈絲型離子源 EH 1020 F
離子源發明人 Kaufman 博士的最新發明 Kaufman 博士是知名的離子源發明人, Kaufman 博士以其在離子源領域 25 年的專業經驗,最新發明―大面積的離子源 EH 1020 F。可應用於離子助鍍(IAD),前處理清潔及蝕刻等。
KRI 離子源(KRI Ion Source ) eH 2000 系列:
KRI 離子源 eH 2000 是一款更強大的版本,帶有水冷方式,他具備 eH 1000 所有的性能,而且可以產生更高的離子束功率,適合更高的工藝等級和更大的系統。水冷方式有助於降低襯底溫度,可適用於塑膠襯底。
KRI Ion Source eHL 線性離子源
KRI Ion Source eHL 線性離子源使用 eH 200 或 eH 400 做為模組,能應用於寬範圍的襯底,離子源長度高達 1 米,通過嚴格調整模組間的距離可以實現最佳的均勻性和離子流。由於模組是平行放置,大大簡化了氣體、功率和電子三者的分佈。KRI eHL 線性產品使用標準的端部霍爾模組並使設備的需求簡化,一個低成本、高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 塗層、in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統。
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